ТОКИО — Американский производитель микросхем Intel и японский национальный исследовательский институт построят в Японии научно-исследовательский и опытно-конструкторский центр по разработке передовых технологий производства полупроводников, что позволит стимулировать производство оборудования и материалов для производства микросхем в стране, где Япония имеет сильные стороны.
Новый объект, который будет построен через три-пять лет, будет оснащен оборудованием для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Производители оборудования и компании-производители материалов будут платить за использование объекта для прототипирования и тестирования. Это будет первый центр в Японии, где участники отрасли смогут совместно использовать оборудование EUV.
